CCP-RIE equipment [RIE-200NL]
価格
スタートアップ
¥3,300
/ 時間
中規模
¥5,500
/ 時間
大規模
¥11,000
/時間
Electron beam lithography system [ELS-F125]
価格
スタートアップ
¥16,500
/ 時間
中規模
¥27,500
/ 時間
大規模
¥55,000
/時間
Electron beam lithography system [ELS-BODEN100]
価格
スタートアップ
¥9,900
/ 時間
中規模
¥16,500
/ 時間
大規模
¥33,000
/時間
Schottky field emission scanning electron microscope (JSM-7001F)
価格
スタートアップ
¥6,600
/ 時間
中規模
¥11,000
/ 時間
大規模
¥22,000
/時間
FIB processing equipment (JEM-9320FIB)
価格
スタートアップ
¥3,300
/ 時間
中規模
¥5,500
/ 時間
大規模
¥11,000
/時間
Spectroscopic Ellipsometer [UNECS-2000A]
価格
スタートアップ
¥3,300
/ 時間
中規模
¥5,500
/ 時間
大規模
¥11,000
/時間
Laser drawing device [DWL66+]
価格
スタートアップ
¥6,600
/ 時間
中規模
¥11,000
/ 時間
大規模
¥22,000
/時間
Ultracentrifuges (biomolecular separation devices)
価格
スタートアップ
¥3,300
/ 時間
中規模
¥5,500
/ 時間
大規模
¥11,000
/時間
Maskless exposure equipment [DL-1000]
価格
スタートアップ
¥3,300
/ 時間
中規模
¥5,500
/ 時間
大規模
¥11,000
/時間
Low-damage precision etching equipment [Spica #1]
価格
スタートアップ
¥6,600
/ 時間
中規模
¥11,000
/ 時間
大規模
¥22,000
/時間
Motors
価格
スタートアップ
¥100
/ 時間
中規模
¥1,500
/ 時間
大規模
¥2,000
/時間
EQP002
価格
スタートアップ
¥1,200
/ 時間
中規模
¥1,800
/ 時間
大規模
¥2,400
/時間
Sputtering equipment [CFS-4EP-LL #4]
価格
スタートアップ
¥3,300
/ 時間
中規模
¥5,500
/ 時間
大規模
¥11,000
/時間
equipment 1
価格
スタートアップ
¥100
/ 時間
中規模
¥1,000
/ 時間
大規模
¥2,500
/時間
Infrared Lamp Heating System [RTP-6 #2]
価格
スタートアップ
¥1,000
/ 時間
中規模
¥5,000
/ 時間
大規模
¥10,000
/時間
ICP-RIE System [CE300I]
価格
スタートアップ
¥1,000
/ 時間
中規模
¥5,000
/ 時間
大規模
¥10,000
/時間
Dicing saws [DAD3220]
価格
スタートアップ
¥1,000
/ 時間
中規模
¥5,000
/ 時間
大規模
¥10,000
/時間
Sputtering System [JSP-8000]
価格
スタートアップ
¥1,000
/ 時間
中規模
¥5,000
/ 時間
大規模
¥10,000
/時間
18ton Small Swaying Machine
価格
スタートアップ
¥1,000
/ 時間
中規模
¥5,000
/ 時間
大規模
¥10,000
/時間
SiN Plasma CVD System [PD-220NL]
価格
スタートアップ
¥1,000
/ 時間
中規模
¥5,000
/ 時間
大規模
¥10,000
/時間
Atomic Layer Deposition System [AD-230LP]
価格
スタートアップ
¥1,000
/ 時間
中規模
¥5,000
/ 時間
大規模
¥10,000
/時間
Maskless Lithography System [DL-1000/NC2P]
価格
スタートアップ
¥1,000
/ 時間
中規模
¥5,000
/ 時間
大規模
¥10,000
/時間
70ton large swaging machine
価格
スタートアップ
¥1,000
/ 時間
中規模
¥5,000
/ 時間
大規模
¥10,000
/時間
FE-SEM+EDX [JSM-IT800]
価格
スタートアップ
¥1,000
/ 時間
中規模
¥5,000
/ 時間
大規模
¥10,000
/時間
Spectroscopic Ellipsometer [UNECS-2000A]
価格
スタートアップ
¥1,000
/ 時間
中規模
¥5,000
/ 時間
大規模
¥10,000
/時間
Maskless Lithography System [DL-1000]
価格
スタートアップ
¥1,000
/ 時間
中規模
¥5,000
/ 時間
大規模
¥10,000
/時間
UV Ozone Cleaner [UV-1]
価格
スタートアップ
¥1,000
/ 時間
中規模
¥5,000
/ 時間
大規模
¥10,000
/時間
Silicon DRIE System [ASE-SRE]
価格
スタートアップ
¥1,000
/ 時間
中規模
¥5,000
/ 時間
大規模
¥10,000
/時間
Steam Plasma Cleaning System [AQ-500 #1]
価格
スタートアップ
¥1,000
/ 時間
中規模
¥5,000
/ 時間
大規模
¥10,000
/時間
Steam Plasma Cleaning System [AQ-500 #2]
価格
スタートアップ
¥1,000
/ 時間
中規模
¥5,000
/ 時間
大規模
¥10,000
/時間
Electron Beam Lithography System [ELS-BODEN100]
価格
スタートアップ
¥1,000
/ 時間
中規模
¥5,000
/ 時間
大規模
¥10,000
/時間
Electron Gun Type Vapor Deposition System [MB-501010]
価格
スタートアップ
¥1,000
/ 時間
中規模
¥5,000
/ 時間
大規模
¥10,000
/時間
Sputtering System [CFS-4EP-LL #2]
価格
スタートアップ
¥1,000
/ 時間
中規模
¥5,000
/ 時間
大規模
¥10,000
/時間
Atomic Layer Etching System [PlasmaPro 100 ALE]
価格
スタートアップ
¥1,000
/ 時間
中規模
¥5,000
/ 時間
大規模
¥10,000
/時間
Electron Gun Type Vapor Deposition System [ADS-E86]
価格
スタートアップ
¥1,000
/ 時間
中規模
¥5,000
/ 時間
大規模
¥10,000
/時間
ICP-RIE [RV-APS-SE]
価格
スタートアップ
¥1,000
/ 時間
中規模
¥5,000
/ 時間
大規模
¥10,000
/時間
CCP-RIE System [RIE-200NL]
価格
スタートアップ
¥1,000
/ 時間
中規模
¥5,000
/ 時間
大規模
¥10,000
/時間
Maskless Lithography System [MLA150]
価格
スタートアップ
¥1,000
/ 時間
中規模
¥5,000
/ 時間
大規模
¥10,000
/時間
Electron Gun Type Vapor Deposition System [ADS-E810]
価格
スタートアップ
¥1,000
/ 時間
中規模
¥5,000
/ 時間
大規模
¥10,000
/時間
Electron Gun Type Vapor Deposition System [RDEB-1206K]
価格
スタートアップ
¥1,000
/ 時間
中規模
¥5,000
/ 時間
大規模
¥10,000
/時間
Laser Lithography System [DWL66+]
価格
スタートアップ
¥1,000
/ 時間
中規模
¥5,000
/ 時間
大規模
¥10,000
/時間
Forging equipment (hydraulic presses)
価格
スタートアップ
¥1,000
/ 時間
中規模
¥5,000
/ 時間
大規模
¥10,000
/時間
Dicing Saw [DAD322]
価格
スタートアップ
¥1,000
/ 時間
中規模
¥5,000
/ 時間
大規模
¥10,000
/時間
Low-Damage Precision Etching System [Spica #2]
価格
スタートアップ
¥1,000
/ 時間
中規模
¥5,000
/ 時間
大規模
¥10,000
/時間
ICP-RIE System [RIE-101iPH]
価格
スタートアップ
¥1,000
/ 時間
中規模
¥5,000
/ 時間
大規模
¥10,000
/時間
Low-Damage Precision Etching System [Spica #1]
価格
スタートアップ
¥1,000
/ 時間
中規模
¥5,000
/ 時間
大規模
¥10,000
/時間
Infrared Lamp Heating System [RTP-6 #3]
価格
スタートアップ
¥1,000
/ 時間
中規模
¥5,000
/ 時間
大規模
¥10,000
/時間
Atomic Layer Deposition System [SUNALE R-150]
価格
スタートアップ
¥1,000
/ 時間
中規模
¥5,000
/ 時間
大規模
¥10,000
/時間
Sputtering System [CFS-4EP-LL #3]
価格
スタートアップ
¥1,000
/ 時間
中規模
¥5,000
/ 時間
大規模
¥10,000
/時間
Electron Beam Lithography System [JBX-8100FS]
価格
スタートアップ
¥1,000
/ 時間
中規模
¥5,000
/ 時間
大規模
¥10,000
/時間
SiO2 Plasma CVD System [PD-220NL]
価格
スタートアップ
¥1,000
/ 時間
中規模
¥5,000
/ 時間
大規模
¥10,000
/時間
Stylus Profiler [Dektak XT-A #2]
価格
スタートアップ
¥1,000
/ 時間
中規模
¥5,000
/ 時間
大規模
¥10,000
/時間
Sputtering System [CFS-4EP-LL #4]
価格
スタートアップ
¥1,000
/ 時間
中規模
¥5,000
/ 時間
大規模
¥10,000
/時間
Infrared Lamp Heating System [RTP-6 #1]
価格
スタートアップ
¥1,000
/ 時間
中規模
¥5,000
/ 時間
大規模
¥10,000
/時間
Mask Aligner [MA-6]
価格
スタートアップ
¥1,000
/ 時間
中規模
¥5,000
/ 時間
大規模
¥10,000
/時間
Laser Lithography System [DWL66+]
価格
スタートアップ
¥1,000
/ 時間
中規模
¥5,000
/ 時間
大規模
¥10,000
/時間
