CCP-RIE equipment [RIE-200NL]
価格
スタートアップ ¥3,300
/ 時間
中規模 ¥5,500
/ 時間
大規模 ¥11,000
/ 時間
Infrared Lamp Heating System [RTP-6 #2]
価格
スタートアップ ¥1,000
/ 時間
中規模 ¥5,000
/ 時間
大規模 ¥10,000
/ 時間
ICP-RIE System [CE300I]
価格
スタートアップ ¥1,000
/ 時間
中規模 ¥5,000
/ 時間
大規模 ¥10,000
/ 時間
Dicing saws [DAD3220]
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スタートアップ ¥1,000
/ 時間
中規模 ¥5,000
/ 時間
大規模 ¥10,000
/ 時間
Sputtering System [JSP-8000]
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スタートアップ ¥1,000
/ 時間
中規模 ¥5,000
/ 時間
大規模 ¥10,000
/ 時間
18ton Small Swaying Machine
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スタートアップ ¥1,000
/ 時間
中規模 ¥5,000
/ 時間
大規模 ¥10,000
/ 時間
SiN Plasma CVD System [PD-220NL]
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スタートアップ ¥1,000
/ 時間
中規模 ¥5,000
/ 時間
大規模 ¥10,000
/ 時間
Atomic Layer Deposition System [AD-230LP]
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スタートアップ ¥1,000
/ 時間
中規模 ¥5,000
/ 時間
大規模 ¥10,000
/ 時間
Maskless Lithography System [DL-1000/NC2P]
価格
スタートアップ ¥1,000
/ 時間
中規模 ¥5,000
/ 時間
大規模 ¥10,000
/ 時間
70ton large swaging machine
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スタートアップ ¥1,000
/ 時間
中規模 ¥5,000
/ 時間
大規模 ¥10,000
/ 時間
FE-SEM+EDX [JSM-IT800]
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スタートアップ ¥1,000
/ 時間
中規模 ¥5,000
/ 時間
大規模 ¥10,000
/ 時間
Spectroscopic Ellipsometer [UNECS-2000A]
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スタートアップ ¥1,000
/ 時間
中規模 ¥5,000
/ 時間
大規模 ¥10,000
/ 時間
Maskless Lithography System [DL-1000]
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スタートアップ ¥1,000
/ 時間
中規模 ¥5,000
/ 時間
大規模 ¥10,000
/ 時間
UV Ozone Cleaner [UV-1]
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スタートアップ ¥1,000
/ 時間
中規模 ¥5,000
/ 時間
大規模 ¥10,000
/ 時間
Silicon DRIE System [ASE-SRE]
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スタートアップ ¥1,000
/ 時間
中規模 ¥5,000
/ 時間
大規模 ¥10,000
/ 時間
Steam Plasma Cleaning System [AQ-500 #1]
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スタートアップ ¥1,000
/ 時間
中規模 ¥5,000
/ 時間
大規模 ¥10,000
/ 時間
Steam Plasma Cleaning System [AQ-500 #2]
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スタートアップ ¥1,000
/ 時間
中規模 ¥5,000
/ 時間
大規模 ¥10,000
/ 時間
Electron Beam Lithography System [ELS-BODEN100]
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スタートアップ ¥1,000
/ 時間
中規模 ¥5,000
/ 時間
大規模 ¥10,000
/ 時間
Electron Gun Type Vapor Deposition System [MB-501010]
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スタートアップ ¥1,000
/ 時間
中規模 ¥5,000
/ 時間
大規模 ¥10,000
/ 時間
Sputtering System [CFS-4EP-LL #2]
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スタートアップ ¥1,000
/ 時間
中規模 ¥5,000
/ 時間
大規模 ¥10,000
/ 時間
Atomic Layer Etching System [PlasmaPro 100 ALE]
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スタートアップ ¥1,000
/ 時間
中規模 ¥5,000
/ 時間
大規模 ¥10,000
/ 時間
Electron Gun Type Vapor Deposition System [ADS-E86]
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スタートアップ ¥1,000
/ 時間
中規模 ¥5,000
/ 時間
大規模 ¥10,000
/ 時間
ICP-RIE [RV-APS-SE]
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スタートアップ ¥1,000
/ 時間
中規模 ¥5,000
/ 時間
大規模 ¥10,000
/ 時間
CCP-RIE System [RIE-200NL]
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スタートアップ ¥1,000
/ 時間
中規模 ¥5,000
/ 時間
大規模 ¥10,000
/ 時間
Maskless Lithography System [MLA150]
価格
スタートアップ ¥1,000
/ 時間
中規模 ¥5,000
/ 時間
大規模 ¥10,000
/ 時間
Electron Gun Type Vapor Deposition System [ADS-E810]
価格
スタートアップ ¥1,000
/ 時間
中規模 ¥5,000
/ 時間
大規模 ¥10,000
/ 時間
Electron Gun Type Vapor Deposition System [RDEB-1206K]
価格
スタートアップ ¥1,000
/ 時間
中規模 ¥5,000
/ 時間
大規模 ¥10,000
/ 時間
Laser Lithography System [DWL66+]
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スタートアップ ¥1,000
/ 時間
中規模 ¥5,000
/ 時間
大規模 ¥10,000
/ 時間
Dicing Saw [DAD322]
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スタートアップ ¥1,000
/ 時間
中規模 ¥5,000
/ 時間
大規模 ¥10,000
/ 時間
Low-Damage Precision Etching System [Spica #2]
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スタートアップ ¥1,000
/ 時間
中規模 ¥5,000
/ 時間
大規模 ¥10,000
/ 時間
ICP-RIE System [RIE-101iPH]
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スタートアップ ¥1,000
/ 時間
中規模 ¥5,000
/ 時間
大規模 ¥10,000
/ 時間
Low-Damage Precision Etching System [Spica #1]
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スタートアップ ¥1,000
/ 時間
中規模 ¥5,000
/ 時間
大規模 ¥10,000
/ 時間
Infrared Lamp Heating System [RTP-6 #3]
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スタートアップ ¥1,000
/ 時間
中規模 ¥5,000
/ 時間
大規模 ¥10,000
/ 時間
Atomic Layer Deposition System [SUNALE R-150]
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スタートアップ ¥1,000
/ 時間
中規模 ¥5,000
/ 時間
大規模 ¥10,000
/ 時間
Sputtering System [CFS-4EP-LL #3]
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スタートアップ ¥1,000
/ 時間
中規模 ¥5,000
/ 時間
大規模 ¥10,000
/ 時間
Electron Beam Lithography System [JBX-8100FS]
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スタートアップ ¥1,000
/ 時間
中規模 ¥5,000
/ 時間
大規模 ¥10,000
/ 時間
SiO2 Plasma CVD System [PD-220NL]
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スタートアップ ¥1,000
/ 時間
中規模 ¥5,000
/ 時間
大規模 ¥10,000
/ 時間
Stylus Profiler [Dektak XT-A #2]
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スタートアップ ¥1,000
/ 時間
中規模 ¥5,000
/ 時間
大規模 ¥10,000
/ 時間
Sputtering System [CFS-4EP-LL #4]
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スタートアップ ¥1,000
/ 時間
中規模 ¥5,000
/ 時間
大規模 ¥10,000
/ 時間
Infrared Lamp Heating System [RTP-6 #1]
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スタートアップ ¥1,000
/ 時間
中規模 ¥5,000
/ 時間
大規模 ¥10,000
/ 時間
Mask Aligner [MA-6]
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スタートアップ ¥1,000
/ 時間
中規模 ¥5,000
/ 時間
大規模 ¥10,000
/ 時間
Laser Lithography System [DWL66+]
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スタートアップ ¥1,000
/ 時間
中規模 ¥5,000
/ 時間
大規模 ¥10,000
/ 時間